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摘要:
采用Ti/Al/Ni/Au多层金属体系在Al0.27Ga0.73N/GaN异质结构上制备了欧姆接触.分别采用线性传输线方法(LTLM)和圆形传输线方法(CTLM)对其电阻率进行了测试.当Ti(10nm)/Al(100nm)/Ni(40nm)/Au(100nm)金属体系在650℃高纯N2气氛中退火30s时,测量得到的最小比接触电阻率为1.46×10-5Ω·cm2.并制备了Al0.27Ga0.73N/GaN光导型紫外探测器,通过测试发现探测器的暗电流.电压曲线呈线性分布.实验结果表明在Al0.27 Ga0.73N/GaN异质结构上获得了好的欧姆接触,能够满足制备高性能AlGaN/GaN紫外探测器的要求.
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关键词云
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文献信息
篇名 用于紫外探测器的AlGaN/GaN异质结构的Ti/Al/Ni/Au欧姆接触特性
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 AlGaN/GaN 欧姆接触 比接触电阻 传输线法 Ti/Al/Ni/Au 紫外探测器
年,卷(期) 2008,(11) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 2187-2191
页数 5页 分类号 TN305
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2008.11.021
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨银堂 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 420 2932 23.0 32.0
2 贾护军 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 25 131 7.0 10.0
3 李跃进 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 70 432 11.0 17.0
4 张军琴 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 8 36 4.0 6.0
5 柴常春 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 80 592 15.0 19.0
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AlGaN/GaN
欧姆接触
比接触电阻
传输线法
Ti/Al/Ni/Au
紫外探测器
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半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
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1980
eng
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