磁控溅射TiAlNO薄膜的结构与力学性能

• 作者: 杨会生 王吉林 王燕斌 罗庆洪 陆永浩
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 反应磁控溅射 TiAlNO薄膜 结构 硬度 摩擦性能
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 56-59
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TG174.444
• 字数: 1704字
• 语种: 中文

摘要

采用独立的Ti靶和Al靶,用射频反应磁控溅射方法,逐步控制氧流量在高速钢(W18Cr4V)基体上沉积了一系列具有不同氧含量的TiAlNO薄膜.研究了氧流量对薄膜组织结构、硬度和摩擦性能的影响.结果表明,在(Ti,Al)N中加入氧形成由(Ti,Al)(N,O)纳米晶和(TiO2,Al2O3)非晶组成的复合结构.随着氧流量的增加,薄膜中晶体相晶格常数逐步减小,其取向则逐步从(111)为主转变为(111)和(200)混合.同时薄膜硬度缓慢地下降,摩擦系数和磨损量先减少后增大,在氧流量为0.9 sccm时达到最小值.研究同时表明,当氧流量为0.9 sccm时薄膜具有最小摩擦系数和高耐磨性,同时保持了高硬度,综合性能最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王燕斌	北京科技大学材料物理与化学系	44	250	9.0	13.0
2	杨会生	北京科技大学材料物理与化学系	21	118	6.0	10.0
3	陆永浩	北京科技大学材料物理与化学系	45	134	6.0	9.0
4	王吉林	北京科技大学材料物理与化学系	1	3	1.0	1.0
5	罗庆洪	北京科技大学材料物理与化学系	7	26	3.0	4.0