Er2O3/Si外延薄膜表面和界面组分研究

• 作者: 方泽波 朱燕艳
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 高k氧化物 表面和界面化学组分 xPs
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 561-565
• 页数: 5页
• 分类号: O469
• 字数: 4106字
• 语种: 中文

摘要

利用X线光电子能谱方法对si基Er2O3外延薄膜的化学组分进行了分析.在X射线照射样品和氩离子轰击使样品减薄的过程中没有诱发其他的化学反应.研究了清洁的si和有氧化层的si衬底上外延生长的Er2O3薄膜的表面和界面化学组分情况,并对上述两种不同的衬底上外延生长Er203薄膜的生长模式进行初步探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方泽波		15	18	2.0	3.0
2	朱燕艳		21	14	2.0	3.0