铁钝化多孔硅紫外辐照下的发光稳定性研究

• 作者: 张婷 赵韦人 陈景东
• 来源期刊: 热处理技术与装备
• 关键词: 多孔硅 铁钝化 光致发光 非桥氧空穴 水热腐蚀
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 33-36
• 页数: 4页
• 分类号: O482
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-4971.2008.05.008

摘要

用水热腐蚀法制备出了红光发射(～2.0 eV)的铁钝化多孔硅.在240 nm紫外光持续辐照下,样品的红光强度迅速增强～10%后趋于稳定.傅立叶红外变换光谱分析结果显示样品中有强的Si-O-Si和Si-O-H吸收,同时存在氧化的硅烷基团(O3-xSix)Si-H(x=1,2,3).量子限制-发光中心模型(QCLC)以及非桥氧空穴缺陷(NBOHC)被用于解释强的稳定的红光辐射.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张婷	漳州师范学院化学与环境科学系	6	6	2.0	2.0
2	陈景东	漳州师范学院物理与电子信息工程系	2	2	1.0	1.0
3	赵韦人	广东工业大学物理与光电工程学院	32	103	5.0	6.0