直流溅射沉积纳米晶氧化镍薄膜及电化学性能

• 作者: 仝俊利 张宏斌 祝要民 蔡羽 赵胜利
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化镍薄膜 直流溅射 电化学性能
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 64-66
• 页数: 3页
• 分类号: O643|TG174.444
• 字数: 2083字
• 语种: 中文

摘要

采用直流溅射并结合热处理工艺制备氧化镍薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDX)考察退火温度对薄膜结构、形貌和组成的影响,并通过恒流充放电技术初步考察薄膜的电化学性能.结果表明,在400～500 ℃退火温度下制备了表面光滑、结构致密的NiO薄膜;随着退火温度的升高,薄膜的晶粒尺寸逐渐增大,晶形趋于完整;其中,500 ℃下退火2 h获得的NiO薄膜具有良好的电化学循环稳定性,有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡羽	河南科学大学信息管理研究所	1	1	1.0	1.0
2	仝俊利	河南科学大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
3	张宏斌	河南科学大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
4	赵胜利	河南科学大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
5	祝要民	河南科学大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0