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RTP晶体的调Q特性研究
RTP晶体的调Q特性研究
作者:
刘晓峰
孙年春
高彦伟
黄永宗
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
RTP晶体
电光调Q晶体
双折射补偿
Q开关
温度调节
摘要:
介绍了一种适用于在高重复频率调Q工作的RbTiOPO4(RTP)电光晶体.通过分析温度变化对RTP晶体透过率的影响,得出通过极精确地控制RTP晶体温度变化范围来补偿晶体的自然双折射是不实用的,而必须用两块相同的正交放置的RTP晶体Q开关,才能补偿晶体的自然双折射,保证Q开关的稳定性.用两块相同的正交放置的RTP晶体Q开关进行了不同频率的电光调Q实验,实验结果说明了RTP晶体作为电光Q开关在高重频工作的潜力.
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文献信息
篇名
RTP晶体的调Q特性研究
来源期刊
光学与光电技术
学科
工学
关键词
RTP晶体
电光调Q晶体
双折射补偿
Q开关
温度调节
年,卷(期)
2008,(1)
所属期刊栏目
激光技术
研究方向
页码范围
15-17
页数
3页
分类号
TN248.3+4
字数
1672字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-3392.2008.01.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
高彦伟
四川大学电子信息学院
3
28
2.0
3.0
2
刘晓峰
四川大学电子信息学院
6
57
4.0
6.0
3
孙年春
四川大学电子信息学院
50
157
6.0
10.0
4
黄永宗
3
28
2.0
3.0
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参考文献(0)
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引证文献(1)
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引证文献(3)
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二级引证文献(2)
2015(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
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引证文献(2)
二级引证文献(4)
2017(6)
引证文献(4)
二级引证文献(2)
2018(2)
引证文献(0)
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2019(9)
引证文献(5)
二级引证文献(4)
2020(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
RTP晶体
电光调Q晶体
双折射补偿
Q开关
温度调节
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
主办单位:
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-3392
CN:
42-1696/O3
开本:
大16开
出版地:
武汉市阳光大道717号
邮发代号:
38-335
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
总被引数(次)
9791
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