(Ni、Li)掺杂ZnO薄膜的制备及其性能

• 作者: 叶小娟 宋海岸 都有为 钟伟
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 稀磁半导体 溶胶-凝胶 旋涂 铁磁性 光致发光
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 纳米材料与结构
• 页码范围: 698-702
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.21|TN305.3|TN304.055|TGLL5.23
• 字数: 3040字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2008.12.004

摘要

采用溶胶-凝胶技术和旋涂的方法,在Si(100)衬底上制备了Ni掺杂争(Ni、Li)共掺的3种ZnO薄膜(Ni0.10Zn0.90 O、Ni0.10Li0.05Zn0.85O和Ni0.10Li0.10Zn0.80O).X射线衍射分析表明,所有薄膜样品均为纤锌矿结构,未发现其他杂相.光致发光研究表明,(Ni、Li)共掺后出现了410 nm左右的紫外发光峰,并随Li浓度的增加发光峰变强,该峰与Li杂质能级有关,同时观察到O2-空位引起的610 nm和740 nm的两个红色发光峰.薄膜中Ni离子为+2价,取代Zn离子的位置.掺杂的ZnO薄膜呈现室温铁磁性,单个Ni原子的饱和磁矩可达到0.210μB,掺入Li或在N2气氛中退火后,都导致单个Ni原子的饱和磁矩降低.铁磁性来源于电子调制的机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟伟	南京大学南京微结构国家实验室	31	385	9.0	19.0
2	都有为	南京大学南京微结构国家实验室	108	1372	18.0	34.0
3	宋海岸	南京大学南京微结构国家实验室	1	2	1.0	1.0
4	叶小娟	南京大学南京微结构国家实验室	1	2	1.0	1.0