基于SOI硅片的硅微电极制作与评估

• 作者: 陈弘达 隋晓红
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: MEMS 视觉修复 硅微电极 在体试验
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 2169-2174
• 页数: 6页
• 分类号: TN303
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2008.11.018

摘要

采用微机电系统(MEMS)工艺方法制作了基于SOI衬底的七通道硅微电极,用于视神经视觉修复.通过噪声分析确定了硅微电极的金属暴露位点的几何尺寸.优化设计了硅微电极的几何结构,以便于减小植入损伤.阻抗测试结果表明,当测试电压为50mVpp时,1kHz频率下,微电极的单通道阻抗为2.3MQ,适用于神经电信号记录.在体实验结果表明,动物初级视皮层记录到的神经电信号幅度为8μV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈弘达	中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点联合实验室	82	341	10.0	13.0