含磷酸酯的自酸蚀粘接剂与牙釉质间的化学吸附

• 作者: 傅柏平 沈燕青 陈冉冉
• 来源期刊: 口腔医学
• 学科: 医学
• 关键词: 磷酸酯 牙釉质 傅立叶变换红外光谱 磷的核磁共振谱 化学吸附
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 基础与临床研究
• 页码范围: 505-508
• 页数: 4页
• 分类号: R781.22
• 字数: 3708字
• 语种: 中文

摘要

目的 研究含磷酸酯的自酸蚀粘接剂与天然牙釉质间的化学吸附. 方法 将成品自酸蚀粘接剂Xeno Ⅲ与牙釉质粉末室温下反应48 h后过滤分离滤液和不溶物,反复冲洗并干燥不溶物,用傅立叶变换红外光谱(FTIR)分别对干燥所得不溶物、牙釉质粉末和Xeno Ⅲ进行定性分析,并做差谱.用磷的核磁共振谱(31P NMR)分别对Xeno Ⅲ、Xeno Ⅲ与牙釉质的混合反应产物、过滤分离后的滤液和不溶物进行检测. 结果 不溶物的FTIR图谱中出现牙釉质和Xeno Ⅲ的特征谱带,与牙釉质差减后,Xeno Ⅲ的特征谱带依然存在,且在代表磷酸盐的谱峰区段1 200 cm-1～800 cm-1内峰位有明显的变化.混合反应产物的31P NMR较预处理剂的谱峰有所左移,且滤液和不溶物的31P NMR在峰型、峰位和峰数上均有较大差异.结论 含磷酸酯的自酸蚀粘接剂不仅可使牙釉质表面脱钙,还能化学吸附于牙釉质之上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈燕青	浙江大学医学院附属口腔医院修复科	5	5	1.0	2.0