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摘要:
静态电流(IDDQ)测试是一种很灵敏且具有成本效益的集成电路测试技术,针对0.13μm某种DSP芯片在量产初期所遇到的IDDQ测试失效情况,利用激光束诱导电阻值变化(OBIRCH)、电压对比(VC)、扫描电镜(SEM)和聚焦离子束(FIB)等电学与物理失效分析方法,确定由离子注入偏差所引起的MOS器件物理缺陷是造成IDDQ失效的原因,据此进行了离子注入光阻的工艺改进,最终实现了成品率的提升.
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文献信息
篇名 0.13μm DSP芯片静态电流测试失效分析研究
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 静态电流失效 激光束诱导电阻值变化 电压对比 离子注入 成品率
年,卷(期) 2008,(7) 所属期刊栏目 技术专栏(半导体检测与测试技术)
研究方向 页码范围 578-580
页数 3页 分类号 TN360
字数 1337字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.07.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 汪辉 上海交通大学微电子学院 33 81 4.0 7.0
2 谈莉 上海交通大学微电子学院 1 1 1.0 1.0
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2010(1)
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研究主题发展历程
节点文献
静态电流失效
激光束诱导电阻值变化
电压对比
离子注入
成品率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
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