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晶圆切割中背面崩裂问题的分析
晶圆切割中背面崩裂问题的分析
作者:
龚平
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
划片
背面崩裂
原因分析
开槽切割
摘要:
半导体技术不断发展,越来越多的新材料、新工艺应用在晶圆制造中.这对封装核心工序的划片工艺提出了很大挑战.在划片工艺中背面崩裂的控制是一个难点.文章主要是从工艺材料、工艺条件、划片刀以及设备四方面分析产生背面崩裂的主要因素以及优化方法.同时介绍了两种控制背面崩裂较有效的切割工艺:减少应力的开槽切割工艺和DBG工艺.
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晶圆分割
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仿射迭代最近点
内容分析
文献信息
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内容分析
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文献信息
篇名
晶圆切割中背面崩裂问题的分析
来源期刊
电子与封装
学科
工学
关键词
划片
背面崩裂
原因分析
开槽切割
年,卷(期)
2008,(7)
所属期刊栏目
封装、组装与测试
研究方向
页码范围
1-5
页数
5页
分类号
TN305.1
字数
3785字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1681-1070.2008.07.001
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
龚平
1
17
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研究主题发展历程
节点文献
划片
背面崩裂
原因分析
开槽切割
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
主办单位:
中国电子科技集团公司第五十八研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1681-1070
CN:
32-1709/TN
开本:
大16开
出版地:
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
邮发代号:
创刊时间:
2002
语种:
chi
出版文献量(篇)
3006
总下载数(次)
24
总被引数(次)
9543
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