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摘要:
半导体技术不断发展,越来越多的新材料、新工艺应用在晶圆制造中.这对封装核心工序的划片工艺提出了很大挑战.在划片工艺中背面崩裂的控制是一个难点.文章主要是从工艺材料、工艺条件、划片刀以及设备四方面分析产生背面崩裂的主要因素以及优化方法.同时介绍了两种控制背面崩裂较有效的切割工艺:减少应力的开槽切割工艺和DBG工艺.
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文献信息
篇名 晶圆切割中背面崩裂问题的分析
来源期刊 电子与封装 学科 工学
关键词 划片 背面崩裂 原因分析 开槽切割
年,卷(期) 2008,(7) 所属期刊栏目 封装、组装与测试
研究方向 页码范围 1-5
页数 5页 分类号 TN305.1
字数 3785字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1681-1070.2008.07.001
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研究主题发展历程
节点文献
划片
背面崩裂
原因分析
开槽切割
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
月刊
1681-1070
32-1709/TN
大16开
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
2002
chi
出版文献量(篇)
3006
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24
总被引数(次)
9543
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