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双层TiOxNy光谱选择性吸收薄膜特性的研究
双层TiOxNy光谱选择性吸收薄膜特性的研究
作者:
巴德纯
沈辉
王志坚
王贺权
闻立时
陈达
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
直流反应磁控溅射
TiOxNy
选择性吸收薄膜
反射率
摘要:
应用直流反应磁控溅射设备在铜基底上制备双层TiOxNy选择性吸收薄膜.当第一层薄膜的制备参数不变时,研究了第二层薄膜中N2流量参数对双层薄膜反射率的影响.结果表明,当第二层薄膜氧氮比为1:1时具有较好的光谱选择吸收特性,并测试了该样品的太阳吸收率和发射率分别as=0.920、ε=0.03.
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篇名
双层TiOxNy光谱选择性吸收薄膜特性的研究
来源期刊
真空科学与技术学报
学科
化学
关键词
直流反应磁控溅射
TiOxNy
选择性吸收薄膜
反射率
年,卷(期)
2008,(5)
所属期刊栏目
技术交流
研究方向
页码范围
450-453
页数
4页
分类号
O614.41+1
字数
1745字
语种
中文
DOI
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1
巴德纯
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闻立时
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王志坚
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期刊影响力
真空科学与技术学报
主办单位:
中国真空学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
邮发代号:
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
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