直流反应溅射法制备Y2O3隔离层的研究

• 作者: 刘慧舟 古宏伟 张华 杨坚 杨玉卫 金薇
• 来源期刊: 低温与超导
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化钇 隔离层 直流反应溅射 涂层导体
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 超导技术
• 页码范围: 38-41,46
• 页数: 5页
• 分类号: O511
• 字数: 2569字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-7100.2008.05.010

摘要

采用直流反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上制备出了Y2O3 隔离层, 并研究了基带温度与H2O分压两个因素对Y2O3薄膜的织构取向以及表面形貌的影响.X射线衍射(XRD)结果和扫描电子显微镜(SEM)的分析表明,在温度为760℃,H2O分压为1.68×10-2Pa的条件下制备出的Y2O3薄膜具有强立方织构,平面内Φ扫描半高宽为7.07°,其表面均匀、致密、无裂纹.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨坚		34	201	6.0	13.0
2	刘慧舟		24	209	6.0	14.0
3	张华		20	152	5.0	12.0
4	古宏伟		33	206	6.0	13.0
5	金薇		5	40	2.0	5.0
6	杨玉卫		7	48	3.0	6.0