硬质合金基体FCVA沉积TiAlN薄膜的试验研究

• 作者: 周友龙 谷祥帅 黄楠
• 来源期刊: 工具技术
• 学科: 工学
• 关键词: FCVA 显微硬度 XRD 摩擦磨损 结合力
• 年，卷（期）: 2008,（9）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 22-24
• 页数: 3页
• 分类号: TG7
• 字数: 1619字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7008.2008.09.007

摘要

采用磁过滤阴极真空弧源(FCVA)沉积技术,通过改变氮气流量在硬质合金基体上沉积了TiAlN薄膜,用显微硬度计测定了TiAlN薄膜的硬度和厚度;采用X射线衍射(XRD)分析技术进行了TiAlN薄膜的相分析;并进行了摩擦磨损试验和对基体与薄膜的结合力进行定性的分析.结果表明:TiAlN薄膜厚度在450～520nm之间;最高硬度为2754Hv,对应氮气分压为N2分压在8.0×10-Pa～1.1×10-1Pa;薄膜中主要存在Ti2AlN、Ti2N与TiN相.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄楠		160	1147	19.0	27.0
2	周友龙		65	407	11.0	18.0
3	谷祥帅		2	9	1.0	2.0