激光在半导体技术中的主要应用及进展

• 作者: 王光伟
• 来源期刊: 科技导报
• 学科: 工学
• 关键词: 激光掺杂 激光退火 激光沉积薄膜 激光固相反应 激光光刻
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 综述文章
• 页码范围: 78-83
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.055|TN249
• 字数: 8335字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7857.2008.06.016

摘要

简要概述了激光在半导体技术中的主要应用.这些应用大致涵盖激光掺杂、激光退火、激光沉积薄膜、激光引发固相反应和激光光刻等几方面.激光光刻中,选取248 nm KrF,193 nm ArF和157 nm F2准分子激光光刻着重进行了探讨.分析了这些激光工艺的现状、特点和最新进展,并对存在的问题和发展趋势作了研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王光伟	天津工程师范大学电子工程系	18	78	5.0	8.0