磁控溅射镀膜过程中非均匀磁场中电子的运动

• 作者: 何元金 孙文博 王合英 陈宜宝
• 来源期刊: 物理实验
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜技术 磁控溅射 横向磁约束
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 实验教学
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: O484|O441
• 字数: 3752字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-4642.2008.11.001

摘要

讨论了磁控溅射过程中电子在非均匀电磁场中的运动规律,分析了靶材非均匀溅射及磁控溅射基片温升低、溅射速率高的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何元金	清华大学物理系	14	122	6.0	10.0
2	王合英	清华大学物理系	30	149	7.0	10.0
3	孙文博	清华大学物理系	27	143	7.0	10.0
4	陈宜宝	清华大学物理系	2	36	2.0	2.0