化学镀镍工艺条件的计算机优化

• 作者: 石玉芳 胡志敏 范建凤
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀镍 均匀设计 多项式回归 计算机优化
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 71-73
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 2757字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.06.024

摘要

为研究化学镀镍最佳工艺条件,以LM-4铝为基体,讨论了均匀设计及计算机优化在化学镀镍中的应用.试验按5因子、10水平、10次试验构成均匀试验表,用综合指数对试样进行量化测评,试验结果用SPSS软件进行多项式回归分析,得到了综合指数与诸因素的多项式回归方程,用MATLAB语言对该方程进行单纯性寻优处理,得到的最佳镀液组成为:硫酸镍30g/L、次亚磷酸钠30g/L、糖精0.5g/L、醋酸钠8g/L、柠檬酸钠19g/L、丁二酸7.5g/L、DL-苹果酸9.5g/L,pH值为5.2,综合指数为98.82.经过试验验证的最后结果与计算机优化的结果基本相符.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范建凤	忻州师范学院化学系	87	435	11.0	16.0
2	石玉芳	忻州师范学院化学系	39	90	5.0	7.0
3	胡志敏	忻州师范学院化学系	1	0	0.0	0.0