热舟蒸发LaF3薄膜的紫外性能研究

• 作者: 尚淑珍 范正修 赵祖欣 邵建达
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 沉积温度 LaF3 光学损耗
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 1941-1945
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3326字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.03.108

摘要

研究了沉积温度对热舟蒸发氟化镧薄膜结构和光学性能的影响,沉积温度从200℃上升到350℃.间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率和反射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学损耗、光学常数以及带隙和截止波长的计算.采用表面轮廓仪进行了表面形貌和表面粗糙度的标定,采用X射线衍射(XRD)方法测量了不同沉积温度下样品的微结构.发现在短波长波段,随着沉积温度的升高,光学损耗增加,晶粒尺寸增大,表面粗糙度略有增加.不过散射损耗在光学损耗中所占比例均很小,光学损耗的增加主要由吸收损耗引起.随着沉积温度的升高,折射率与消光系数增大,带隙变小,相对应的截止波长向长波方向移动.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	尚淑珍	华东理工大学机械与动力工程学院	19	135	8.0	11.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	赵祖欣	华东理工大学机械与动力工程学院	20	136	6.0	11.0