埋层裸露ZnO:Al-TiO2复合薄膜的制备及光催化性能研究

• 作者: 付少永 张溪文 韩高荣
• 来源期刊: 纳米科技
• 学科: 工学
• 关键词: 光催化 复合 埋层裸露
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 纳米加工工艺
• 页码范围: 24-27
• 页数: 4页
• 分类号: TB33|O484
• 语种: 中文

摘要

采用不同方法制备了埋层裸露的ZnO:Al-TiO2复合薄膜,并对其表面形貌、微结构、薄膜厚度以及光催化能力几个方面进行了研究,发现这种结构的薄膜具有增强的光催化性能,于是利用Ag+的还原性设计实验对这种结构的光催化机理进行了进一步研究,结果表明,暴露的ZnO:Al埋层作为复合半导体的N极,可以通过界面向溶液中提供光生电子自由e,从而抑制光生电荷的复合,提高光催化性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩高荣	浙江大学材料与化学工程学系无机非金属材料研究所	187	1971	24.0	35.0
2	张溪文	浙江大学材料与化学工程学系无机非金属材料研究所	43	309	11.0	16.0
3	付少永	浙江大学材料与化学工程学系无机非金属材料研究所	1	0	0.0	0.0