全息光栅掩模应力控制研究

• 作者: 张大伟 陈南曙 黄元申
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 全息光栅 薄膜应力 Stoney公式
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 58-60
• 页数: 3页
• 分类号: O484.2
• 字数: 1830字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-3392.2008.06.016

摘要

通过干涉法并应用Stoney公式计算的结果,对SiO2基底上光刻胶薄膜的应力进行了研究.采用干涉显微镜在同一样品、不同直径上多点测量的方法,初步得出光刻胶薄膜膜厚均匀性的分布规律.发现在匀胶转速相同的前提下,光刻胶薄膜应力值随加速度的降低而减小,光刻胶薄膜的均匀性随加速度的增加而变好.在4 000 rpm的低转速时,光刻胶薄膜样品的膜厚均匀性好.因此,在全息光栅匀胶工艺中,要选择适当的转速的加速度,以得到应力较小和均匀性较好的光刻胶薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大伟	上海理工大学光学与电子信息学院	117	391	11.0	15.0
2	黄元申	上海理工大学光学与电子信息学院	56	348	11.0	16.0
3	陈南曙	上海理工大学光学与电子信息学院	4	15	2.0	3.0