热丝CVD制备微晶硅薄膜的研究

• 作者: 刘东平 刘爱民 刘艳红 刘韶华 吕博嘉 马腾才
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 热丝化学气相沉积 微晶硅薄膜 光学带隙
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 48-50
• 页数: 3页
• 分类号: TK514
• 字数: 2303字
• 语种: 中文

摘要

采用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜,利用X射线衍射谱、Raman散射谱、透射光谱和扫描电子显微镜等检测手段,系统地研究沉积过程中沉积气压对微晶硅薄膜晶粒尺寸、晶态比和光学带隙的影响,运用Tacu法则对薄膜的透射率和厚度进行计算分析,得到薄膜光学带隙与沉积气压之间的关系,结果表明薄膜的光学带隙随着沉积气压的升高而单调下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马腾才	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	81	688	15.0	21.0
2	刘东平	大连民族学院理学院	19	36	3.0	5.0
3	刘艳红	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	14	73	6.0	8.0
4	刘爱民	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	7	43	4.0	6.0
5	吕博嘉	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	1	3	1.0	1.0
6	刘韶华	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	2	14	2.0	2.0