基于同步辐射光刻的三维微细加工方法

• 作者: 杉山进 李以贵 洞出光洋
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 工学
• 关键词: 聚甲基丙烯酸甲酯 同步辐射 X射线光刻 微结构 3-D结构
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 82-84
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1452字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-3392.2008.01.023

摘要

同步辐射光刻的三维聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl Methacrylate,PMMA)微结构制造对X射线光刻掩膜板的吸收体形状和PMMA所吸收的X射线能量分布有直接影响,即三维PMMA微结构形状取决于X射线光刻掩膜板的吸收体形状.如果不对X射线光刻掩膜板进行补偿,在被曝光的结构中可观察到结构侧面的变形.研究了引起这种结构侧面变形的各种原因并提出X射线剂量对刻蚀深度非线性曲线是最直接的原因.基于X射线光刻掩膜板图形形状和实际制造的三维PMMA微结构的误差,X射线光刻掩膜板从双直角三角形变为双半圆图形使得微注射针阵列的强度得到增强.为了量化实际制造的三维PMMA微结构的误差,给出了X射线吸收能量分布与微结构的结构形状数据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李以贵	上海交通大学微纳米科学技术研究院	19	120	7.0	10.0