电子束蒸发结合热处理方法制备高质量MgxZn1-xO薄膜

• 作者: 刘玉学 刘益春 徐长山 李亚军 董利普
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: MgxZn1-xO薄膜 电子束蒸发 光学性质
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 页码范围: 313-317
• 页数: 5页
• 分类号: O482.31
• 字数: 3189字
• 语种: 中文

摘要

利用电子束蒸发结合热处理方法在150 ℃下,石英衬底上生长了纤锌矿结构的MgxZn1-xO薄膜.用X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM),吸收光谱和室温光致发光(PL)光谱研究了退火条件和降温方式对MgxZn1-xO薄膜的微结构和光学性质的影响.在吸收光谱中,吸收边和吸收峰的蓝移说明:通过改变退火条件和降温方式,可以将MgxZn1-xO薄膜的带隙从3.37 eV提高到3.61 eV. 从SEM的结果得出:吸收边和吸收峰的蓝移不是由量子限制效应引起的,而是形成了MgxZn1-xO合金薄膜.在XRD谱图中,没观察到属于MgO的衍射峰,700 ℃退火快速降温至室温薄膜的衍射峰的半高全宽(FWHM)较其他薄膜的衍射峰有所展宽,说明Mg2+已经成功地取代了ZnO中的Zn2+.薄膜的室温光致发光谱说明:通过采用快速降温,可制得高质量的MgxZn1-xO薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘益春	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	50	292	10.0	15.0
2	徐长山	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	20	23	2.0	4.0
3	刘玉学	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	15	21	3.0	4.0
4	董利普	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	1	3	1.0	1.0
5	李亚军	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	1	3	1.0	1.0