银汞修复牙的腐蚀电位变化

• 作者: 关艳丽 吴耀荣 谢蓉
• 来源期刊: 航空航天医药
• 学科: 医学
• 关键词: 腐蚀电位 汞合金 填充体
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 论著
• 页码范围: 213-214
• 页数: 2页
• 分类号: R783.1
• 字数: 2834字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1434.2008.04.011

摘要

目的:采用在口腔内直接测定腐蚀电位值,在30d内对汞合金充填体进行电位变化测定.测定使用微电极探针、Ag/AgCl为参比电极、高阻抗电位计.方法:选择不同时间作汞合金填充的患者(2个月、1年、2年、3年、5年)为研究对象,不改变其饮食和卫生习惯.经过连续监测,填充体腐蚀电位都发生变化.结果:腐蚀电位的平均变化在30mV,其中最大变化达到105mv.结论:随着填充体使用的时间增加,腐蚀电位的变化有增大的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴耀荣		3	1	1.0	1.0
2	关艳丽		3	0	0.0	0.0
3	谢蓉		2	7	1.0	2.0