超声波辅助湿法腐蚀制备多晶Si低反射表面

• 作者: 周浪 王艺帆
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅 织构化 湿法腐蚀 超声波
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 工艺技术与材料
• 页码范围: 888-891
• 页数: 4页
• 分类号: TM914.4|TN305.7
• 字数: 2355字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.10.012

摘要

为降低光在多晶Si表面的反射,一种以湿法腐蚀为基础,添加超声波震荡的新方法,首次被用来腐蚀多晶Si太阳能电池片.利用扫描电子显微镜观察发现,此法所制备的多晶Si片表面形成了较多窄而深的沟壑状结构.其反射谱测试结果表明,此方法所获得的凹凸表面的减反射效果良好,加权反射率达到3.5%;同时减反射效果对入射光波长选择性不明显.最后,在实验的基础上对腐蚀机理进行了深入的探讨,认为超声波的空泡特性有利于腐蚀的纵向深入,抑制了腐蚀的横向发展,是形成此沟壑状形貌的主要原因.