亚微米锥形光纤的制备及硅烷化修饰

• 作者: 庞小峰 王以明 王洪志 秦杰
• 来源期刊: 化学通报（印刷版）
• 学科: 化学
• 关键词: 化学蚀刻 锥形光纤 SEM 硅烷化 荧光强度
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 71-74
• 页数: 4页
• 分类号: O6
• 字数: 2115字
• 语种: 中文

摘要

采用氢氟酸(HF)蚀刻方法制备亚微米结构的锥形光纤,考察了不同HF浓度和蚀刻时间对亚微米光纤几何构型的影响,用SEM表征光纤的几何形状.实验表明,当HF:H2O=1:1、蚀刻时间约为5h时,得到了亚微米锥形光纤,且其表面光滑.亚微米锥形光纤在甲基三氯硅烷混合溶液中进行硅烷化反应后,与吖啶橙相互作用,用其尖端的荧光强度的变化来表征亚微米光纤尖端活性基团的键合程度.该方法可用于检测光纤尖端键合的活性基团,也可以检测耦合的靶分子,这为纳米光纤生物传感器的研制奠定了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	庞小峰	电子科技大学生命科学与技术学院	92	702	13.0	23.0
2	王洪志	西南民族大学生命科学与技术学院	33	137	5.0	11.0
3	王以明	电子科技大学生命科学与技术学院	17	139	8.0	11.0
7	秦杰	电子科技大学生命科学与技术学院	6	65	3.0	6.0