Si/SiNx 超晶格材料的非线性光学特性

• 作者: 吕蓬 徐骏 王启明 申继伟 郭亨群 陈坤基
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Si/SiNx超晶格 三阶非线性极化率 Z-扫描 射频磁控反应溅射
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 页码范围: 1045-1049
• 页数: 5页
• 分类号: O437|O484.41
• 字数: 3118字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控反应溅射技术与热退火处理制备了Si/SiNx超晶格材料.利用吸收光谱和X射线衍射对材料进行表征.通过皮秒脉冲激光单光束Z-扫描技术研究了该材料在非共振吸收区的三阶非线性光学特性,实验结果表明,样品的非线性折射率为负值,非线性吸收属于双光子吸收.由实验数据得到材料的三阶非线性极化率实部和虚部分别为1.27×10-7,1.51×10-8 esu,该值比体硅材料的三阶非线性极化率值大5个数量级.对材料光学非线性产生的机理进行了探讨,认为材料的非线性极化率的增加来源于材料量子限制效应的增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐骏	南京大学物理系	22	38	3.0	4.0
2	陈坤基	南京大学物理系	31	53	5.0	6.0
3	王启明	中国科学院半导体研究所	118	735	14.0	20.0
4	郭亨群	华侨大学信息科学与工程学院	40	180	8.0	11.0
5	申继伟	华侨大学信息科学与工程学院	5	23	4.0	4.0
6	吕蓬	华侨大学信息科学与工程学院	7	29	4.0	5.0