直流反应磁控溅射法制备WO3薄膜及其氢敏特性研究

• 作者: 冯有才 尹英哲 胡明 陈鹏
• 来源期刊: 传感器与微系统
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 WO3 氢传感器 灵敏度
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 46-48
• 页数: 3页
• 分类号: TP212
• 字数: 1812字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-9787.2008.03.015

摘要

采用直流反应磁控溅射法,在未抛光的A12O3基片上制备WO3薄膜,在干燥空气中经过热处理;利用SEM观察薄膜表面形貌;通过XRD测量,对薄膜的晶体结构进行分析;薄膜氢敏特性测试采用静态配气法.经过400℃热处理,当工作温度在270℃时,对体积分数为3×10-4氢气的灵敏度达到了77,稳定性较高,选择性好,响应时间很快,在15 s以内,是一种较理想的氢敏材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈鹏	天津大学电子信息工程学院	33	223	8.0	13.0
2	胡明	天津大学电子信息工程学院	139	1336	19.0	28.0
3	冯有才	天津大学电子信息工程学院	8	46	4.0	6.0
4	尹英哲	天津大学电子信息工程学院	8	46	4.0	6.0