稀释气体流量对低压化学气相沉积硼掺碳涂层的影响

• 作者: 刘永胜 张伟华 张立同 徐永东 成来飞 杨文彬 涂建勇
• 来源期刊: 固体火箭技术
• 学科: 工学
• 关键词: 硼掺碳涂层 化学气相沉积(CVD) 稀释气体 形貌组成
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 结构、材料与工艺
• 页码范围: 397-402
• 页数: 6页
• 分类号: TB332|TQ174.758.2
• 字数: 3656字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-2793.2008.04.022

摘要

以BCl3-C3H6-H2为气相反应体系,采用低压化学气相沉积制备硼掺碳涂层.研究了Ar气稀释流量对硼掺碳涂层沉积速度、形貌、组成和键合状态的影响.结果表明,不同稀释气体流量作用下,硼掺碳的沉积速度没有明显变化,产物形貌由致密向层状转变,硼元素含量稍有减少而碳元素含量稍有增加.沉积产物中B元素的键合方式以B-sub-C和BC2O为主.结合化学反应和气体扩散,探讨了稀释气体的作用机制,表明PyC形成反应的主导作用导致稀释气体流量对沉积速度作用不明显,而BCl3和C3H6在Ar气中扩散系数的差异导致产物形貌和组成发生变化.