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808 nm大功率半导体激光迭阵偏振耦合技术
808 nm大功率半导体激光迭阵偏振耦合技术
作者:
冯广智
刘云
单肖楠
尹红贺
王祥鹏
王立军
秦莉
邓鑫李
顾媛媛
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
808 nm
大功率半导体激光
偏振耦合
光束耦合
摘要:
随着半导体激光器在工业、军事、核能等领域的应用越来越多,单个迭阵输出的光功率密度已经不能满足实际的需求,这就需要将多个半导体激光迭阵的光束耦合成为一个共同的光束,以提高输出功率和亮度.所以采用怎样的光束耦合技术能实现高亮度、高质量的激光输出就成了一个关键性的问题.对于该技术的研究,国内还没有实验方面的报道.主要介绍了大功率半导体激光器偏振耦合原理、实验的技术路线,以及对 808 nm半导体激光迭阵进行耦合实验的结果及分析.对2个bar、功率为40 W/bar的808 nm连续半导体激光迭阵,实现偏振耦合的总效率超过90%,聚焦得直径为3 mm光斑,输出功率达到134 W,总体效率超过84%. 对7个bar、峰值功率100 W/bar、占空比20%的808 nm准连续半导体激光迭阵进行了偏振耦合,其效率达到67%,得到4.5 mm×4.5 mm的光斑.
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文献信息
篇名
808 nm大功率半导体激光迭阵偏振耦合技术
来源期刊
发光学报
学科
工学
关键词
808 nm
大功率半导体激光
偏振耦合
光束耦合
年,卷(期)
2008,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
695-700
页数
6页
分类号
TN248.4
字数
3274字
语种
中文
DOI
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节点文献
808 nm
大功率半导体激光
偏振耦合
光束耦合
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
发光学报
主办单位:
中国物理学会发光分会
中科院长春光机所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-7032
CN:
22-1116/O4
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路16号
邮发代号:
12-312
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
4336
总下载数(次)
7
总被引数(次)
29396
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