热处理方式对ZAO薄膜结构以及电学性质的影响

• 作者: 孙方华 宗垒 李清山 梁得春
• 来源期刊: 物理实验
• 学科: 物理学
• 关键词: ZAO薄膜 溶胶-凝胶 后退火 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 实验与应用
• 页码范围: 12-17
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 5353字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-4642.2008.06.004

摘要

采用溶胶-凝胶旋转涂敷方法在普通玻璃衬底上生长ZAO薄膜.每涂敷1层薄膜,都要在一定的温度下对薄膜进行1次热处理,连续涂敷7层,最后再对部分薄膜在600℃的马弗炉中退火2h.采用X射线衍射和薄膜电阻率分别来表征涂敷薄膜的结构特征和电学特性.实验结果表明:每次涂敷薄膜后所设定温度的大小以及最后是否再对薄膜进行退火处理直接影响着制备薄膜的结构特征和电学性质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李清山	曲阜师范大学物理工程学院	57	249	9.0	12.0
2	孙方华	曲阜师范大学物理工程学院	2	3	1.0	1.0
3	梁得春	曲阜师范大学物理工程学院	1	0	0.0	0.0
4	宗垒	曲阜师范大学物理工程学院	1	0	0.0	0.0