直流磁控溅射制备TiNxOy薄膜的性能研究

• 作者: 朱开贵 杨海刚 王聪 陈尔东
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: TiNxOy 直流磁控溅射 迟滞回线 吸收光谱
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 60-63
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 2932字
• 语种: 中文

摘要

利用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了TiNxOy薄膜样品,研究了溅射过程中电压与N2流量之间的迟滞效应,通过X射线衍射(XRD)、UV-Vis分光光度计、四探针电阻仪等测试手段表征了样品的物相、光吸收谱、电阻等性能.结果表明:随着N2含量的提高和薄膜厚度的增加,XRD显示薄膜样品出现明显的衍射峰,吸收光谱向可见光方向展宽至500 am,电阻随着N2含量的提高呈逐渐下降的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王聪	北京航空航天大学凝聚态物理与材料物理研究中心	45	510	12.0	21.0
2	杨海刚	北京航空航天大学凝聚态物理与材料物理研究中心	4	12	3.0	3.0
3	朱开贵	北京航空航天大学凝聚态物理与材料物理研究中心	9	10	2.0	3.0
4	陈尔东	北京航空航天大学凝聚态物理与材料物理研究中心	2	4	1.0	2.0