纳米光刻对准方法及其原理

• 作者: 严伟 周绍林 唐小萍 杨勇 胡松 陈旺富 马平
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米光刻 对准技术 掩模与硅片 标记 对准精度
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 222-230
• 页数: 9页
• 分类号: TN305.7|O436.1
• 字数: 4822字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2008.04.008

摘要

对准技术对光刻分辨力的提高有着重要作用.45 nm节点以下的光刻技术如纳米压印等,对相应的对准技术提出了更高的要求.对光刻技术发展以来主要用于接近接触式和纳米压印光刻的对准技术做总结分类,为高精度的纳米级光刻对准技术提供理论研究基础和方向.经过分析,从原理上将对准技术分为几何成像对准、波带片对准、干涉光强度对准、外差干涉对准及莫尔条纹等五种对准方法.最后结论得出基于条纹空间相位的对准方法具有最好的抗干扰能力且理论上能达到最高的对准精度,而其他基于光强的对准方法的精度更易受到工艺涂层的影响.因此,基于干涉条纹空间相位对准的方法在纳米级光刻对准中具有很好的理论前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨勇	中国科学院光电技术研究所	101	942	20.0	27.0
5	唐小萍	中国科学院光电技术研究所	32	193	8.0	12.0
6	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
7	马平	中国科学院光电技术研究所	45	544	12.0	21.0
8	周绍林	中国科学院光电技术研究所	11	55	5.0	7.0
12	陈旺富	中国科学院光电技术研究所	4	18	3.0	4.0