精密掩模清洗及保护膜安装工艺

• 作者: 赵延峰
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模 清洗工艺 保护膜
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺技术与材料
• 页码范围: 151-154
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7|TN305.97
• 字数: 4173字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.02.016

摘要

光刻工艺及其成品率对掩模洁净度要求极高.通过一系列研究分析,找到了传统掩模清洗工艺的一些缺点和局限性,借鉴和参考了传统掩模清洗工艺,克服了其局限性.基于精密掩模对加工质量的高要求,安装了保护膜并改进了精密掩模清洗工艺,通过试验形成了最终工艺.新清洗工艺的开发满足了0.5μm掩模加工洁净度要求.