掺氮二氧化钛薄膜的介质阻挡放电化学气相沉积及其结构性能研究

• 作者: 张溪文 李喆 韩高荣
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 介质阻挡放电化学气相沉积 掺氮TiO2薄膜 光催化性 亲水性
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 318-324
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 字数: 4687字
• 语种: 中文

摘要

采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法,以四异丙醇钛(TTIP) 作为钛源,氨气(NH3)和笑气(N2O)分别作为氮源的气相反应先驱体,成功制备了不同掺杂量的掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜.SEM、XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明:所制得的掺氮二氧化钛薄膜均为锐钛矿相,氮源的引入对TiO2薄膜晶粒成长、晶体取向、表面形貌影响很大,并促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能.且NH3掺氮效果整体好于N2O.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩高荣	浙江大学硅材料国家重点实验室	187	1971	24.0	35.0
2	张溪文	浙江大学硅材料国家重点实验室	43	309	11.0	16.0
3	李喆	浙江大学硅材料国家重点实验室	2	13	2.0	2.0