TiO2薄膜上电沉积四氨基酞菁钴及其表征

• 作者: 吴敏 孙岳明 张俊颉 杨朝晖 秦艳涛
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 化学
• 关键词: 四氨基酞菁钴 电沉积 循环伏安
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 220-222,196
• 页数: 4页
• 分类号: O649.5
• 字数: 2414字
• 语种: 中文

摘要

为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙岳明	东南大学化学化工学院	117	1074	17.0	25.0
2	吴敏	东南大学化学化工学院	37	342	11.0	17.0
3	秦艳涛	东南大学化学化工学院	6	59	5.0	6.0
4	张俊颉	东南大学化学化工学院	5	44	4.0	5.0
5	杨朝晖		2	11	1.0	2.0