ATMP、HEDP阻垢能力的量化研究

• 作者: 庄柯 张之翼 杭烨超 陈国松
• 来源期刊: 化工时刊
• 学科: 工学
• 关键词: 水处理剂 吸附能 介稳区
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 科技进展
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TQ0
• 字数: 2913字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-154X.2008.02.001

摘要

考虑溶剂化效应对水处理剂分子的作用,利用Hyperchem软件对水处理剂分子氨基三亚甲基膦酸(ATMP)、羟基亚乙基二膦酸(HEDP)作分子模拟,得到在水溶液中的稳定构型,并利用Gaussian03W软件计算分子的量化参数.结合空间几何匹配理论和电子云分布概念归纳出ATMP、HEDP针对碳酸钙晶体的活性作用点,并计算出活性点与晶体吸附所产生的稳定能.据此解释HEDP适宜在低Ca2+浓度下阻垢,ATMP适宜在高Ca2+浓度下阻垢,并通过测定介稳区加以证明.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	庄柯	南京工业大学理学院应用化学系	1	8	1.0	1.0
2	陈国松	南京工业大学理学院应用化学系	63	581	11.0	21.0
3	杭烨超	南京信息工程大学环境科学与工程系	3	11	2.0	3.0
4	张之翼	南京工业大学理学院应用化学系	26	196	7.0	13.0