ZnO/(Ni)薄膜的制备与发光性能的研究

• 作者: 刘晓艳 吴再华 高飞
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 光致发光 间隙锌 Ni掺杂
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 工艺技术与材料
• 页码范围: 701-704
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2576字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.08.016

摘要

采用直流磁控溅射法制备了ZnO/(Ni)薄膜.研究了氧分压及Ni掺杂对ZnO薄膜的结构、光致发光特性及薄膜中的几种本征缺陷如氧空位(VO)、锌空位(VZn)、氧位锌(OZn)、锌位氧(ZnO)、间隙氧(Oi)、间隙锌(Zni)等浓度变化的影响.实验结果表明,随着氧分压的增大,466nm处的蓝色发光峰增强,掺Ni后蓝色发光峰也增强.通过分析,推测出蓝色发光峰可能是由ZnO薄膜中的间隙锌(Zni)点缺陷引起的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘晓艳	中南大学材料科学与工程学院	62	583	14.0	21.0
2	高飞		1	2	1.0	1.0
3	吴再华		1	2	1.0	1.0