无酸水热法制备多孔硅及其PⅢ表面改性

• 作者: 卢茜 吴子景 吴晓京 李慧
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 无酸水热法 多孔硅 等离子体浸没注入技术 光致发光
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺技术与材料
• 页码范围: 488-491,494
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.3
• 字数: 3427字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.06.008

摘要

采用无酸水热法,制备了多孔硅材料.使用扫描电子显微镜、原子力显微镜等手段观察了样品表面形貌,比较了在不同氧化铋刻蚀剂量下得到的多孔硅结构,发现随着刻蚀剂浓度的增加,平均孔径尺寸变大,且孔径分布趋于离散.使用等离子浸没注入技术,对多孔硅样品进行了表面注氮处理.室温荧光光谱研究发现处理后的样品的光谱峰位产生了蓝移,根据X光电子能谱仪检测的结果发现样品表面形成了Si-NxOy相,这一物相的出现导致了光谱的蓝移.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李慧	复旦大学材料科学系	36	225	9.0	13.0
2	吴晓京	复旦大学材料科学系	22	241	5.0	15.0
3	吴子景	复旦大学材料科学系	6	46	3.0	6.0
4	卢茜	复旦大学材料科学系	5	7	1.0	2.0