等离子体处理提高金属镀层与有机基底附着力的研究

• 作者: 付亚波 岳蕾 桑利军 陈强 霍纯青
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体处理 磁控溅射 Al膜 附着力
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 379-382
• 页数: 4页
• 分类号: O539
• 字数: 1915字
• 语种: 中文

摘要

利用反应磁控溅射技术在有机玻璃(亚克力板)上完成Al的膜层制备,并进行了膜层表面的光泽度、附着力和耐腐蚀性等研究.实验发现,采用这种技术制备的Al膜具有较高的光泽度.在Al膜上沉积一层氧化硅薄膜可以提高耐腐蚀性但不会对Al膜的光泽度产生影响.但是金属薄膜在有机基材上的附着力较差,大约在6 N左右.为此可以利用Ar、O2等离子体对有机玻璃表面进行清洗,或者在薄膜表面添加过渡层,即在镀膜之前先在基材上镀一层其他材料,然后再镀金属膜.实验发现环氧材料或SiO2作为过渡层,薄膜的附着力有显著提高.但需注意提高耐腐蚀性的同时不能影响薄膜光泽度和附着力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈强	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理及材料研究室	125	542	10.0	17.0
2	桑利军	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理及材料研究室	14	53	5.0	6.0
3	岳蕾	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理及材料研究室	7	31	4.0	5.0
4	霍纯青	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理及材料研究室	4	21	3.0	4.0