强光胁迫下外源NO对霍山石斛叶绿素荧光的影响

• 作者: 李廷春 李正鹏 林毅 樊洪泓 蔡永萍
• 来源期刊: 核农学报
• 学科: 农学
• 关键词: 霍山石斛 NO 强光胁迫 PSⅡ
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 同位素示踪·植物生理·动物生理
• 页码范围: 524-528
• 页数: 5页
• 分类号: S5
• 字数: 3960字
• 语种: 中文

摘要

以兼性景天酸代谢CAM植物霍山石斛为材料,研究了强光胁迫条件下,外源一氧化氮(NO)对霍山石斛叶绿素荧光参数的影响.结果表明:在强光胁迫下,0.1mmol/L硝普钠(SNP,NO供体)处理显著缓解强光对霍山石斛光合系统Ⅱ(PSⅡ)的抑制,霍山石斛PSⅡ荧光参数潜在光化学效率(Fv/Fm)、实际光化学效率(ΦPSⅡ)、光化学猝灭系数Ql、非光化学猝灭系数NPQ和ΦNPQ下降缓慢,且非光化学猝灭系数ΦNO值较低,PSⅡ反应中心恢复较快,说明该处理缓解了光抑制的发生,保护了光合机构免受强光胁迫的伤害,而经0.5mmol/L SNP处理后,霍山石斛的Fv/Fm、ΦpsⅡQl、NPQ和ΦNPQ下降程度增加,西ΦNO也较高,恢复较慢,表明该处理加剧了PSⅡ反应中心光抑制的发生.可见,高浓度(0.5mmol/L)SNP处理可加剧光抑制的发生,而低浓度(0.1mmol/L)SNP处理可缓解强光对石斛的胁迫作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡永萍	安徽农业大学生命科学学院	167	2775	29.0	45.0
2	林毅	安徽农业大学生命科学学院	139	2078	27.0	38.0
3	李廷春	安徽农业大学生命科学学院	15	221	8.0	14.0
5	樊洪泓	安徽农业大学生命科学学院	42	540	13.0	22.0