高性能铜箔的研发以及有机添加剂的应用

• 作者: 刘峰 王平 袁智斌 黄永发
• 来源期刊: 江西化工
• 学科: 工学
• 关键词: 低轮廓铜箔 无轮廓铜箔 Pd系催化剂
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 综述与专论
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 分类号: TQ2
• 字数: 1476字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-3103.2008.03.007

摘要

本文简要介绍了契合当今微电子行业发展要求的低轮廓铜箔和无轮廓铜箔的发展现状,列举了一些国际知名铜箔制造厂生产的该类铜箔的性能指标,同时也提供了国外科研机构在铜箔生产中使用钯系催化剂的研究成果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘峰	南昌大学理学院化学系	48	258	8.0	13.0