Ti-Si-N复合膜的微结构及性能研究

• 作者: 农尚斌 喻利花 许俊华
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Ti-Si-N复合膜 微结构 性能
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 45-49
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 5350字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.02.017

摘要

为研究Si的加入及含量对薄膜结构和性能的影响,采用磁控反应溅射法制备了一系列不同Si含量的Ti-Si-N复合膜,采用XRD、微力学探针和SEM研究了薄膜的微结构、力学性能和抗氧化性.结果表明:随着Si含量的增加,薄膜晶粒尺寸减小,硬度升高,抗氧化性能提高.Si含量为4%～12%(原子数分数)时,晶粒尺寸随含量增加而急剧下降;当Si含量超过9%时,薄膜硬度处于峰值区;Si含量在7%以上时,薄膜具有较高的抗氧化能力.探讨了Ti-Si-N复合膜硬度升高和抗氧化能力提高的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许俊华	江苏科技大学材料科学与工程学院先进焊接技术重点实验室	60	269	9.0	13.0
2	喻利花	江苏科技大学材料科学与工程学院先进焊接技术重点实验室	58	246	8.0	12.0
3	农尚斌	江苏科技大学材料科学与工程学院先进焊接技术重点实验室	1	0	0.0	0.0