遮光对窄头橐吾形态及光合特性的影响

• 作者: 卢婷 林夏珍
• 来源期刊: 浙江农林大学学报
• 关键词: 植物学 窄头橐吾 遮光 形态特征 光合特性
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 页码范围: 614-618
• 页数: 5页
• 分类号: S718.43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-0756.2008.05.014

摘要

对不同遮光条件下窄头橐吾Ligularia stenocephala形态及光合特性进行研究.结果表明:遮光处理对窄头橐吾形态特性有明显影响,在55%的遮光条件下,窄头橐吾具有较高的相对生长率.窄头橐吾的净光合速率日变化曲线在不同光照条件下均呈"双峰"型,在13:00出现明显的光合"午休"现象.在0(全光照),55%和75%遮光条件下,窄头橐吾的光补偿点分别为13.20,15.10和8.63 μmol·m-2·s-1;光饱和点分别为919.66,749.20和727.34μmol·m-2·s-1;最大净光合速率分别为7.13,9.29和8.21 μmol·m-2·s-1;表观量子效率分别为0.040 1,0.046 0和0.046 3.与时照相比,55%和75%的遮光使窄头橐吾的最大净光合速率增高了30.3%和15.1%.不同遮光条件下,窄头橐吾的光饱和点和光补偿点都比较低,表明其对光照的要求不高,属于耐荫植物,适宜在弱光照环境下栽培与应用.图2表4参16