Ni/Al纳米多层膜的界面扩散与电阻率

• 作者: 刘明霞 张建民 徐可为
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ni/Al 纳米多层膜 电阻率 调制结构 界面扩散
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 页码范围: 357-360
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O346.3
• 字数: 3142字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2008.03.019

摘要

采用FS-MS模型研究了Ni/Al纳米多层膜的薄膜电阻率ρ及镜面反射系数P随周期数n、Ni/Al调制比R和调制波长L的演变规律,从而表征了多层膜界面扩散行为的尺度依赖性.结果表明t随着n减小,ρ基本恒定,多层膜界面扩散行为对调制周期数不敏感;而随着薄膜特征尺度R和L的减小,出现ρ异常增加和P明显减小的变化过程. P对薄膜特征尺度的依赖关系反映了多层膜界面扩散行为的尺寸效应,即多层膜界面非对称的互扩散行为只在低调制比与低调制波长尺度下加剧,此时界面互促效应凸现;在高于临界调制波长和调制比的情况下,互促效应弱化,薄膜界面扩散行为不明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐可为	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	238	3333	30.0	44.0
2	张建民	陕西师范大学物理学与信息技术学院	91	480	12.0	19.0
3	刘明霞	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	4	13	3.0	3.0