大面积自支撑CVD金刚石厚膜的应力研究

• 作者: 卢文壮 左敦稳 徐锋 王珉
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 应力 金刚石厚膜 自支撑 大面积 XRD
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 页码范围: 1444-1447
• 页数: 4页
• 分类号: TG115
• 字数: 2272字
• 语种: 中文

摘要

在HFCVD系统中制备了直径为φ100 mm的自支撑CVD金刚石厚膜,利用XRD研究了自支撑CVD金刚石厚膜的应力.结果显示制备的大面积自支撑CVD金刚石厚膜处于较低的应力水平,应力分布较均匀,生长面应力状态为压应力,成核面应力状态为张应力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢文壮	南京航空航天大学机电学院	94	520	12.0	17.0
3	左敦稳	南京航空航天大学机电学院	510	3780	26.0	32.0
4	徐锋	南京航空航天大学机电学院	85	541	13.0	18.0
5	王珉	南京航空航天大学机电学院	205	2631	27.0	40.0