退火对ZnO薄膜光学特性的影响

• 作者: 吴小惠 张锡健 王卿璞 王国强 马洪磊 龚小燕
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 射频磁控溅射 退火
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 页码范围: 451-454
• 页数: 4页
• 分类号: O482.31|TN304.2
• 字数: 2620字
• 语种: 中文

摘要

用射频磁控溅射法在蓝宝石衬底上制备出ZnO薄膜,通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和光致发光(PL)谱等研究了退火温度对ZnO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,所制备的ZnO薄膜为六角纤锌矿结构,具有沿c轴的择优取向;随着退火温度的升高,(002)XRD峰强度和平均晶粒尺寸增大,(002)XRD峰半高宽(FWHM)减小,光致发光紫外峰强度增强.结果证明,用射频磁控溅射法通过适当控制退火温度可得到高质量ZnO薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马洪磊	山东大学物理学院	58	681	15.0	23.0
2	王卿璞	山东大学物理学院	32	527	13.0	22.0
3	张锡健	山东大学物理学院	18	195	7.0	13.0
4	王国强	山东大学物理学院	3	15	1.0	3.0
5	龚小燕	山东大学物理学院	2	21	2.0	2.0
6	吴小惠	山东大学物理学院	1	15	1.0	1.0