有机硅/SiO2杂化涂层电化学阻抗研究

• 作者: 刘光明 姚敬 杜楠 陈刚
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 溶胶-凝胶 有机硅/SiO2杂化涂层 红外光谱 电化学阻抗
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 47-50
• 页数: 4页
• 分类号: TQ631.2
• 字数: 4962字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.06.016

摘要

采用溶胶-凝胶法,以正硅酸乙酯(TEOS)为无机相前驱体,甲基三乙氧基硅烷(MTES)和二甲基二甲氧基硅烷(DDS)为有机相前驱体,盐酸和水为催化剂,通过水解-缩聚反应制备了有机硅/SiO2有机-无机杂化溶胶.在100℃下经12h烘干得到有机硅/SiO2杂化涂层,红外光谱研究表明:有机、无机两相组成了强相互作用的复合体系.采用电化学阻抗(EIS),研究了杂化溶胶制备的涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的阻抗行为.并根据阻抗谱特征建立了等效电路,结合等效电路图及拟合结果,分析了杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的耐蚀性.研究结果表明:在3.5%NaCl溶液中,有机硅/SiO2杂化涂层具有良好的耐蚀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜楠	南昌航空大学材料学院	96	969	17.0	25.0
2	刘光明	南昌航空大学材料学院	74	354	9.0	16.0
3	陈刚	南昌航空大学材料学院	6	20	3.0	4.0
4	姚敬	南昌航空大学材料学院	12	28	3.0	5.0