脉冲激光沉积b轴取向BaTi2O5薄膜的研究

• 作者: 张联盟 後藤孝 沈强 涂溶 王传彬
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: BaTi2O5薄膜 b轴取向 基片温度 氧分压
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 553-556
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TN384
• 字数: 3020字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.03.027

摘要

采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在MgO(100)基片上制备了b轴取向的BaTi2O5薄膜,研究了基片温度(Tsub)、氧分压(Po2)等沉积工艺对薄膜结构的影响.结果表明: BaTi2O5薄膜的物相及取向性都随基片温度和氧分压的改变而变化,薄膜呈现(710)或(020)取向生长,最佳的PLD沉积条件为Tsub=700℃和Po2=12.5Pa.在该条件下,BaTi2O5薄膜表现出明显的b轴取向,薄膜表面平整光滑,结晶良好,晶粒呈棒状交叉分布,结合紧密.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张联盟	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	249	2664	24.0	41.0
2	沈强	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	131	858	14.0	24.0
3	王传彬	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	51	285	9.0	15.0