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摘要:
利用电子束光刻技术制备了200nm栅长GaAs基T型栅InAlAs/lnGaAs MHEMT器件.该GaAs基MHEMT器件具有优越的直流、高频和功率性能,跨导、饱和漏电流密度、阈值电压、电流增益截止频率和最大振荡频率分别达到510mS/mm,605mA/mm,-1.8V,138GHz和78GHz.在8GHz下,输人功率为-0.88(2.11)dBm时,输出功率、增益、PAE、输出功率密度分别为14.05(13.79)dBm,14.9(11.68)dB,67.74(75.1)%,254(239)mW/mm,为进一步研究高性能GaAs基MHEMT功率器件奠定了基础.
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文献信息
篇名 T形栅In0.52Al0.48As/In0.6Ga0.4As MHEMTs功率器件
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 MHEMT InAlAs/InGaAs 功率特性 T型栅
年,卷(期) 2008,(12) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 2331-2334
页数 4页 分类号 TN386
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2008.12.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐静波 中国科学院微电子研究所 15 55 4.0 6.0
2 张海英 中国科学院微电子研究所 114 574 11.0 17.0
3 黎明 中国科学院微电子研究所 41 329 12.0 17.0
4 付晓君 中国科学院微电子研究所 5 21 2.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
MHEMT
InAlAs/InGaAs
功率特性
T型栅
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
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35317
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